水性墨水納米高剪切分散機(jī)

水性墨水納米高剪切分散機(jī)

分散機(jī)是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過(guò)程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。

墨水是墨水和油漆涵蓋了涂裝和噴涂應(yīng)用的很多類(lèi)產(chǎn)品。墨水和油漆通常分為油相和水相兩種，并有添加色素或樹(shù)脂。如采用傳統(tǒng)加工方式，需要花費(fèi)相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)溶解樹(shù)脂，還會(huì)發(fā)生沉淀和結(jié)塊。使用設(shè)備，客戶(hù)可以高效率生產(chǎn)高品質(zhì)的產(chǎn)品。

縮短工藝時(shí)間。設(shè)備產(chǎn)生的高剪力，可以打碎樹(shù)脂顆粒，并暴露于溶劑中，加速溶解過(guò)程。

提升產(chǎn)品品質(zhì)。根據(jù)原料和產(chǎn)品的細(xì)度，設(shè)備可以研磨色素，或消除 終產(chǎn)品的結(jié)塊。有多種分散頭供選擇，能完美的勝任各項(xiàng)任務(wù)。

墨水納米分散機(jī)是 顆粒細(xì)化到納米級(jí)后，其表面積累了大量的正、負(fù)電荷，納米顆粒的形狀極不規(guī)則，這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加，當(dāng)降至1nm時(shí)，表面原子比例高達(dá)90%，原子幾乎全部集中到顆粒表面，處于高度活化狀態(tài)，導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的表面效應(yīng)，很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，從而團(tuán)聚發(fā)生

*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚，使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外，納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮，還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此，納米氧化物粉體必須均勻分散，充分打開(kāi)其團(tuán)聚體，才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。

墨水納米分散機(jī)

分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是 重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，希德公司在XR2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出XRS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。

三級(jí)高剪切分散機(jī)器，主要用于微乳液及超細(xì)懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭（定子+轉(zhuǎn)子）同時(shí)工作，乳液經(jīng)過(guò)高剪切后，液滴更細(xì)膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同工藝應(yīng)用。該系列中不同型號(hào)的機(jī)器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴(kuò)大規(guī)?；a(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn)，適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)為懸浮乳液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，其剪切速率可以超過(guò)15000rpm，轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號(hào)表供參考：

水性墨水納米高剪切分散機(jī)